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工業技術研究院

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VUV臭氧產生器

技術簡介

臭氧的應用範圍非常廣泛,包含:汙水處理、飲用水消毒、食品加工殺菌、食品貯藏、醫療衛生以及空間消毒等。臭氧的產生方法包括:高壓放電法、UV光化學法等。然而,傳統臭氧產生方法有:能耗大、易生NOx毒性污染物,或使用含汞光源、低臭氧產率等缺點,尚無法符合國際間積極追求無毒與節能的環保需求。

特色與創新

本VUV臭氧產生技術以自開發之172nm氙氣準分子光源進行臭氧生成,該氙氣準分子光源不含汞、能量密度高、具有特殊內外電極及燈體設計,所製作的VUV臭氧反應器具有氣體特殊流道設計,可瞬間生成臭氧,並具有高純度及高臭氧產率等優點。

本技術以高能量UV光源應用於臭氧之生成,在國際上屬首創商品,並已完成多項專利申請與佈局。該172nm UV準分子燈係為無汞光源,且臭氧生成製程中無 NO<sub>x</sub>等有害氣體生成,為一新式環保型臭氧產生技術。

應用與效益

本技術產品因具有突破性設計,使設備得以簡化,已達到高性能(低耗能且高產率)、低成本與小型化的優點,可廣泛使用於各式殺菌及分解有機物用途。目前,已應用於衣櫃、鞋櫃、寵物間等之空間殺菌除臭,以及溫室植栽的空間殺菌、病害防治、食品加工以及醫療產業(例如:保鮮防霉、環境殺菌)等方面。

工研院VUV臭氧生成模組
工研院VUV臭氧生成模組
工研院VUV臭氧產生器
工研院VUV臭氧產生器


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