技術簡介
工研院空間磁場量測技術可同步量測大範圍磁場分布，搭配場型解析找出干擾熱點，支援無線充電、功率模組與精密設備EMI檢測。
因應智慧型平板／手機等行動裝置趨向輕薄化及低功耗需求，奈米元件製程檢測能力已成為眾家相互較勁之研發重點，CD-SEM為檢測膜層品質及線寬之重要儀器，該系統容易受到微磁場干擾，造成影像模糊而無法精確量測。此干擾問題迫使產業界必須即刻尋找能夠即時監控廠務磁場干擾之技術，以提升製程檢測精確度。
本技術針對業界需求提出多維度磁場同步量測及場型解析方案，藉由磁場感測模組及EMI濾波電路設計以增加響應頻寬及降低干擾，使用標準磁場校正感測電壓，結合快速擷取及運算Sensor Node資料量，以取得廠區環境之微磁場型及找出干擾源。
特色與創新
目前市面上磁場感測模組屬於Portable及單點量測型式，無法同步解析空間大範圍的微磁場干擾。而工研院之創新點在於結合感測元件、模組設計、回饋控制及場型解析等關鍵項目，開發高寬頻／高感度之sensor node以同步量測磁場及場型分佈。
應用與效益
本技術應用領域包括半導體廠房空間EMI電磁場型分佈檢測、功率模組／元件EMI檢測或LED lighting或Smart Phone用功率基板或模組元件之EMI干擾抑制評價或無線充電／近場通訊電磁洩漏量測監控。
本技術協助廠商進行無線充電及近場通訊EMI洩漏檢測，提升電磁相容性，並協助國內半導體廠建立廠區微磁場干擾檢測及監控系統，以提升製程檢測穩定性。
工研院透過多點Sensor Node布建與磁場解析，建立半導體廠區微磁場監測系統，可長時間掌握環境磁場變化並協助定位干擾來源。