技術簡介
電漿製程先進控制單元，建立射頻電漿阻抗匹配調控技術，透過電壓、電流進行估測，以控制馬達調整射頻輸出阻抗，可提升半導體製程阻抗變動的適應能力。
Abstract
The advanced plasma process control unit establishes RF plasma impedance matching control technology. By estimating through voltage and current measurements, it controls two motors to adjust the RF output impedance, thereby enhancing the adaptability to impedance variations in semiconductor processes.
技術規格
射頻電漿電源模組
驅動頻率13.56MHz
輸出阻抗50歐姆
Technical Specification
RF Plasma Power Module
Operating Frequency：13.56 MHz
Output Impedance：50 ohms
技術特色
電漿製程先進控制單元，以射頻電漿電源模組為基礎，開發阻抗匹配控制架構，並搭配電壓、電流估測，可確保電源與負載間的阻抗達最佳匹配，進而提升半導體製程的穩定性。
應用範圍
半導體與光電產業
接受技術者具備基礎建議（設備）
射頻電漿電源模組
接受技術者具備基礎建議（專業）
需具備有電控經驗之開發人員
聯絡資訊
聯絡人：李桂銘 無人機系統技術組
電話：+886-3-5917942 或 Email：kmlee＠itri.org.tw
客服專線：+886-800-45-8899
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