410期2026年9月號
出版日期:2026/09/15

產業焦點 Spotlights
AI時代下的半導體與算力淨零新路
撰文/張維君
工研院舉辦「半導體與AI算力永續競爭力論壇」,經濟部以及南亞科技、環球晶圓與金兆鎔科技等半導體企業,共同探討建構半導體低碳循環生態系,並發表資料中心創新散熱技術,推動臺灣半導體產業接軌全球永續標準。
AI浪潮襲來,半導體產業紛紛擴產因應。然而,晶片製造與AI資料中心耗用大量能源,如何兼顧環境永續、達成淨零排放,成為重要課題。工研院日前舉辦「半導體與AI算力永續競爭力論壇」,邀集產業專家剖析AI浪潮下的淨零挑戰,並提出有效解方,協助產業提升永續競爭力。
百工百業導入AI之際,綠色轉型的壓力,卻主要由上游的資料中心、半導體供應鏈承擔。工研院「半導體與AI算力永續競爭力論壇」中,邀請南亞科技、環球晶圓等產業領袖,分享半導體業如何從研發源頭、製程到廠務,達成智慧節能、永續環境的目標;工研院專家也分享製程端減碳,以及用於AI資料中心的創新散熱技術,協助產業構建永續競爭力。
經濟部次長江文若表示,臺灣擁有世界級的頂尖半導體與電子產業供應鏈,在強勁的AI浪潮與龐大算力需求下,不僅要持續發揮晶片與硬體的全球領先優勢,更要讓半導體製造朝向更低碳、AI運算更節能的方向邁進。經濟部將持續推動產業淨零轉型,結合臺灣無可取代的產業實力,讓AI發展與能源永續同步向前,展現臺灣在全球永續的硬實力。
工研院副院長胡竹生表示,算力發展的極限取決於熱管理與資源循環技術,在經濟部科技專案與能源專案支持下,工研院已展開多層次的技術整合,包含研發千瓦級高熱密度晶片適用的「雙相浸沒式液冷架構」,以及「3D鋁製微流道熱虹吸散熱器」。在製造源頭端,工研院亦導入「製程尾氣常溫脫硝與化工循環再生技術」,透過冷卻系統工程與循環材料雙軌創新,將晶片硬體優勢延伸至整體綠色運算架構。
製程、廠務到供應鏈 多管齊下減碳
根據台電最新預測,臺灣半導體產業用電量到2035年將增至1,100億度,占臺灣總用電量的3成。滿足AI需求的同時,綠色轉型勢必不能再等,須同步進行。記憶體大廠南亞科技從產品研發、製程、廠務到再生能源購電等,多管齊下推動永續。南亞科技資深副總經理吳志祥指出,製程升級引導晶片功耗下降,本身就在減碳,相同產品下,16奈米製程可較20奈米減少達3到4成的碳排放。
此外,南亞科技也推出客製化超高頻寬DRAM技術,將記憶體直接堆疊於特用IC(ASIC)運算單元上,不用犧牲算力,也能大幅降低終端裝置能耗。同時著手開發新製程配方,以減少原物料使用產生的碳足跡,近3年減量效益達新臺幣2億元。
在製造與廠務端,南亞科技機台後端已全面裝設尾氣削除設備(Local Scrubber;LSC),溫室氣體削減率達93%,並導入智慧聯控機制,在機台進入閒置模式時,調降天然氣流量。同時,導入ISO 50001能源管理系統,配合能源管理數位平台與AI智慧製造,從2018至2025年間執行約247個專案,累計省電7.877萬度,約占總用電量8%至9%。此外,南亞科技與工研院合作推動「大帶小」專案,帶領10家供應商減碳8,536噸,並規劃2030年現有廠區綠電占比將達25%。
全球第三大矽晶圓製造商環球晶圓副總經理黃耀毅則表示,環球晶高達60%的碳足跡來自範疇三的價值鏈採購。為此,公司每季與多晶矽等供應商共商落實綠色採購,與客戶合作實施晶舟盒回收等4R(Reduce、Reuse、Recycle、Repair)循環策略;在製造端,環球晶研發低散熱新式長晶爐,大幅阻絕矽晶圓在攝氏1,400度高溫下的熱能逸散。
環球晶大力投入節能減碳以回應客戶要求,於2025年宣布「RE100」目標時程提前至2040年,更實現美、義新廠啟用即實現「RE100」目標,2026年亦通過科學基礎減量目標倡議的目標審查。環球晶的綠色實踐,也助其在國際CDP評級中,獲得氣候變遷B級、水安全A級、供應商議合A級的表現。
製程副產品封閉循環 兼顧淨零與永續
確保半導體高精密製程中所產生的副產品,包括化學廢棄物、高濃度氮氧化物(NOx)及廢溶劑,在廠區內安全、封閉循環,是維護環境永續的關鍵。
化學品廢棄物處理業者金兆鎔科技,特別在竹科園區設置「淨零廢研製中心」,針對半導體廠設計出一套讓熱能、化學品與水資源,達到封閉循環的「韌性循環3.0」方案。金兆鎔科技技術長黃致詠表示,該中心回收製程副產品後,會進行高效安全燃燒,產生熱能可回供化學品純化系統、溶劑再生產線,實現能源自給自足;化學品回收純化經驗證通過,規格與新品相當,可再進入製程,實現就地安全的一站式封閉韌性循環 。
針對製程機台尾氣處理設備所排放的NOx,工研院「常溫脫硝電漿輔助催化技術」先透過電漿反應,產生大量含氧自由基,再與尾氣中NOx進行預反應,透過獨家觸媒將NOx高效氧化為具高水溶性的高階氮氧化物(NxOy),即可在後端洗滌塔中水洗去除,進入廠內廢水處理 。實測顯示,該技術脫硝率達90%以上,且觸媒通過長期運轉測試,完全不增加系統壓損,確保生產機台安全,目前已在全臺晶圓廠實地裝機驗證 。
工研院長期深耕化工技術在電子業的淨零應用。工研院材料與化工研究所經理林國興指出,電子業廢溶劑純化回用常倚賴蒸餾製程,蒸餾製程在傳統化工廠內通常是高耗能單元,因此工研院團隊建立兩項降低蒸餾製程能耗的解決方案,首先是透過硬體改善蒸餾製程,包括導入機械式蒸氣再壓縮(MVR)或熱泵技術,將蒸餾塔頂蒸氣熱能回收做為塔底加熱源,節能率可達4成;其次是非硬體改善解決方案,透過建立「AI代理模型」結合實廠數據,可預測蒸餾製程最佳節能參數,成功案例包括協助南部大廠節省17%製程能耗。
工研院亦持續發展「CO2捕捉再利用合成低碳化學品」技術,將捕捉的CO2當成原料,轉化產出電子級化學品,如異丙醇(IPA)及丙二醇甲醚(PGME),期望幫助電子業建立兼顧循環經濟與淨零排放的新解方。
晶片層級散熱崛起 算力永續再進一步
晶片擴產耗用水電,集結晶片產出算力的資料中心,對水電的需求更龐大。工研院產業科技國際策略發展所資深研究經理李宏俊指出,國際能源總署(IEA)預估全球資料中心用電量將從2024年的415 TWh,暴增至2030年的950 TWh,逼近全球電力總量的10% 。
面對日益嚴格的環境法規,李宏俊表示,未來算力永續評估不能只看電力使用效率(PUE),必須建立涵蓋算力用電、碳強度(CCI)與水效用(WUE)等多面向的指標。並在資料中心設計建置階段,利用數位孿生模擬,在營運階段導入AI能源管理,重視廢熱回收技術,並降低用水量 。
要實現資料中心的節能減碳,關注重點已不是機房外牆或空調主機。由於晶片熱設計功耗(TDP)越來越高,加上GPU與高頻寬記憶體(HBM)高度整合,所產生的熱集中問題,使得晶片層級的散熱越來越重要。
工研院電子與光電系統研究所組長王欽宏指出,工研院推出創新的直接液冷方案 ,拿掉傳統高導熱的介面材料(TIM1),應用記憶體堆疊技術,開發出高精度晶圓對晶圓(W2W)直接接合平台。可在低於150°C環境中,以0.2 微米的極高對位精度,將碳化矽(SiC)微流道晶片與CoWoS運算晶片直接堆疊接合,讓發熱源與大氣熱交換距離縮到最短,目前實驗室已成功驗證,散熱能力達2,700瓦,並持續精進中。
針對熱功耗千瓦等級的散熱方案,工研院也發展「3D鋁製微流道熱虹吸散熱器」。工研院綠能與環境研究所組長劉陽光表示,該技術採無毛細結構(Wick)、搭配池沸騰與熱虹吸自循環設計,流體受熱汽化上升冷凝,受重力自然滴回,克服毛細回流瓶頸、循環速度極快,搭配毫米級的微流道與專利百葉窗鰭片的全鋁製結構,可增強散熱與輕量化。經實證最大解熱能力達1,600瓦,較傳統3D VC散熱器提升33%,但製造成本卻大減40%,更可完全避免液冷快接頭漏液的風險,提供極具競爭力的創新氣冷解方。
協同調控 資料中心與電網共生
解決了晶片散熱危機,還有電力負載問題。上萬顆晶片同步運算,對區域電網造成極大壓力。工研院綠能與環境研究所副組長黃永福指出,AI訓練與推論會引發劇烈用電波動,電網監管機構對資料中心的審查,已由「用多少電」,轉向評估資料中心用電是否具「可預測、可觀測、可穿越與可恢復」,亦即是否可預測短期負載,以利提前調度;用電狀態是否透明,可即時掌握對周邊電網的影響;對外部電網的微小故障是否有耐受力,可撐過短暫波動;以及當電力恢復時,是否能平順逐步復電。
黃永福說,資料中心必須落實「電網(Grid)-電力(Power)-資訊(IT)」三層協同控制技術:電網層控制公共連接點(PCC)端行為,具備低電壓穿越(LVRT)與故障虛功支撐,避免電網恢復時瞬間跳接,衝擊電力系統;電力層引進固態變壓器(SST)與電池備援/電力轉換系統等備援,克服交直流多主控控制權衝突,防止環流與振盪;IT層則透過AI進行動態工作負載排程,並在電網異常時,發揮調節協同能力,確保資料中心與整體電網安全共生。
AI引領全產業的煥新轉型,也對資源與環境生態,帶來沉重壓力。面對這場不可逆的科技變革,臺灣產業須以創新的思維,為催生淨零與永續科技持續努力,如此一來,AI及背後的生態系將不是環境的掠奪者,而是數位與淨零雙軸轉型的驅動者,臺灣產業也將在世界上築起無可取代的優勢,迎接以綠色、循環、永續的新紀元。
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