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工業技術研究院

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高效雙模態原子層鍍膜系統

技術簡介

高效雙模態原子層鍍膜...(詳如圖說)
高效雙模態原子層鍍膜系統。

半導體生產過程工序繁複,每道製程均需運用特殊設備,且製程轉換過程中,常面臨傳輸耗時、汙染及品質下降等風險,加上晶圓先進製程,鍍膜精度要求日益嚴格。

工研院研發之「高效雙模態原子層鍍膜系統」,將半導體前段鍍膜製程的多項步驟合而為一套All-in-one 鍍膜系統,減少傳輸與汙染,提升鍍膜品質與產能,符合半導體3D 高深寬比孔內鍍膜、多成份控制、保形、奈米膜原子層製程需求。

特色與創新

巧妙整合融入機台以提升鍍膜品質和生產速率,可望將臺灣國產自製率由30%提升至60%以上,更可將維修時程從7天縮短至1 天。

應用與效益

此技術榮獲2023年全球百大科技研發獎(R&D 100 wards)肯定。