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工業技術研究院

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技術名稱: 雙域整型奈秒雷射系統

技術簡介

可藉由電控系統調整雙脈衝的時間差以及各別脈衝的脈衝寬度,其調整範圍都能達到10~100 ns。使用繞射光學元件的轉換效率也有80 %以上

Abstract

The time difference of the double pulses and the pulse width of each pulse can be adjusted through the electronic control system, and the adjustment range can reach 10~100 ns. The conversion efficiency using diffractive optical elements is also more than 80 %

技術規格

(a)雙脈衝延遲時間:10~100 ns;(b)脈衝寬度:10~100 ns ;(c)DOE能量轉換效率≧80% ;(d)平頂均勻性:±10%

Technical Specification

(a)Double pulse delay time: 10~100 ns;(b)Pulse width: 10~100 ns; (c)DOE energy conversion efficiency ≧80%;(d)Flat top uniformity: ±10%

技術特色

在一台雷射系統中利用雙種子光源加上電控設計做出脈衝整型(時間域)與利用繞射光學元件做出光束整型(空間域)

應用範圍

精微雷射加工、半導體元件加工

接受技術者具備基礎建議(設備)

奈秒雷射源 光束整形模組 精密線性平台

接受技術者具備基礎建議(專業)

光學、雷射製程、機械、控制

技術分類 半導體晶片技術

聯絡資訊

聯絡人:徐尚聿 先進光機與智造技術組

電話:+886-6-6939156 或 Email:shangyuhsu@itri.org.tw

客服專線:+886-800-45-8899

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