技術簡介
藉由電漿阻抗電性分析儀器,監測及分析薄膜沉積製程中的電漿設備內電漿狀態,並建立預測分析模型,讓使用者能預測薄膜沉積狀況
Abstract
Through the plasma impedance electrical analysis instrument, the plasma state in the plasma equipment during the thin film deposition process is monitored and analyzed, and a predictive analysis model is established to allow users to predict the thin film deposition conditions.
技術規格
電漿阻抗電性分析儀器其監控電漿製程之電流、電壓、阻抗等電性特質,鎖定於功率0~600 W區間之電漿電性,結合資訊模型以進行數據處理及沉積厚度預測分析。
Technical Specification
The plasma impedance instrument monitors the electrical characteristics such as current, voltage, and impedance of the plasma process. Especially in the plasma electrical properties at the power range of 0~600 W, which combines the above information to perform data processing and deposition thickness prediction analysis.
技術特色
結合資訊模型以進行數據處理及沉積厚度預測分析,讓使用者能預測薄膜沉積狀況
應用範圍
電漿設備(真空系統)
接受技術者具備基礎建議(設備)
阻抗偵測計
接受技術者具備基礎建議(專業)
軟硬體功能整合架構且提供較市面上多元之電漿參數分析與監控能力
聯絡資訊
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