技術簡介
在透明材料內，以雷射改質技術完成直徑≦10μm光傳輸線路結構。
Abstract
Using laser direct writing technology to focus and modify the interior of transparent materials, rapidly fabricating optical transmission structures with specific optical properties.
技術規格
(a)改質線路直徑≦10 μm
Technical Specification
(a)Modified Diameter ≦10 μm
技術特色
利用雷射直寫技術於透明材料內部聚焦改質，快速製作具有特定光學性能的光傳輸線路結構。
應用範圍
1. 光傳輸
2. 傳感和生物晶片應用
接受技術者具備基礎建議（設備）
超快雷射源
聚焦鏡組
精密線性平台
控制系統
接受技術者具備基礎建議（專業）
光學、物理、電機、電子
聯絡資訊
聯絡人：李益志 先進光機與智造技術組
電話：+886-6-6939339 或 Email：Ethanlee＠itri.org.tw
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