技術簡介
電漿製程先進控制單元，建構射頻電漿電源驅控模組技術，透過PWM脈波寬度調變，並搭配估測技術，進行電漿電源輸出調整，可提升射頻電漿電源控制能力。
Abstract
The plasma process advanced control unit constructs the RF plasma power supply control module technology. By utilizing PWM (Pulse Width Modulation) and combining estimation techniques, the plasma power supply output is adjusted, which enhances the control capability of the RF plasma power supply.
技術規格
射頻電漿電源驅控模組，頻率為13.56 MHz
Technical Specification
RF Plasma Power Supply Control Module
Frequency：13.56 MHz
技術特色
電漿製程先進控制單元，以射頻電漿電源驅控模組為基礎，採用D類功率放大器架構，具有精準控制的能力，可提升製程穩定性，以符合半導體產業應用需求。
應用範圍
半導體產業
接受技術者具備基礎建議（設備）
射頻電漿電源驅控模組
接受技術者具備基礎建議（專業）
需具備有電控經驗之開發人員
聯絡資訊
聯絡人：李桂銘 控制核心技術組
電話：+886-3-5917942 或 Email：kmlee＠itri.org.tw
客服專線：+886-800-45-8899
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