工業技術研究院

技術簡介

本技術的一主要目的在提供一種具高吸附容量的處理酸性氣體(氯化氫， 三氟化硼，氯氣)之乾式潔淨劑，主要應用於半導體或光電廠之尾氣處理。 由本技術所製造之潔淨劑，對於三氟化硼的處理效率可達 99％以上，吸附容量達100L gas/kg 以上 。

Abstract

A cleaning agent for treating harmful gas is disclosed. The cleaning agent has a specific surface of at least 60 m2/g and is produced by co-precipitation method. The cleaning agent of the present invention can remove acid exhaust gases (e.g., hydrogen chloride, boron tri-fluoride, boron tri-chloride, chlorine) emitted from semiconductor and opto-electronic manufacturing processes by chemisorption.

技術規格

操作溫度 : 常溫 處理流量 : ＜ 200 L/min 對於BF3, HCl處理效率 : ＞ 99％

Technical Specification

Operate temp. : ＞10 C Volumetric flow-rate : ＜ 200 L/min Removal efficiency for treating : BF3, HCl ＞ 99％

技術特色

不需要添加貴金屬(AgO)或高污染性重金屬(HgO、CdO)等促進劑, 製造成本低,環境友善性高

應用範圍

半導體製造業、光電產業之製程尾氣處理

接受技術者具備基礎建議（設備）

無

接受技術者具備基礎建議（專業）

具有高科技業尾氣處理基本常識者

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