技術簡介
藉由添加劑調整生箔的物性,如粗糙度、強度、延伸率、耐折等物性。此外,搭配銅箔後處理技術提高銅箔與基材間抗撕強及耐化、耐熱性。
Abstract
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技術規格
依下游需求可調整
Technical Specification
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技術特色
低粗糙度、高強度、高延伸率、高耐折銅箔及超薄銅箔技術,及提高銅箔與基材間抗撕強度的瘤化技術、耐化、耐熱表面處理。
應用範圍
使用於細線路HDI 、PCB、高多層之高性能印刷電路板、IC載板、散熱板、 軟性印刷電路板、 鋰離子電池集電體。
接受技術者具備基礎建議(設備)
銅箔業者
接受技術者具備基礎建議(專業)
電化學及化工專長
聯絡資訊
聯絡人:邱秋燕 功能設計與複材研究組
電話:+886-3-5915278 或 Email:chiuyen@itri.org.tw
客服專線:+886-800-45-8899
傳真:+886-3-5820207