技術簡介
開發以脈衝雷射電弧鍍膜(Pulse Laser Arc Deposition)技術，在微細鑽頭表面成長氮化物多層複合薄膜，及其線上壽命測試分析。
Abstract
The pulse laser arc deposition system has been scaled up from the laboratory level to an industrial prototype.
技術規格
多層奈米複合薄膜之薄膜表面硬度值＞ 40 GPa，薄膜表面平均粗糙度Ra＜0.05μm。
Technical Specification
Properties of the multi-layer coating : hardness!O 40 GP, roughness Ra!O0.05￡gm.
技術特色
可在金屬及矽基板複材沉積高熱傳導係數薄膜、高純度高硬度類鑽膜以及DLC/CrC/CrN等多層奈米複合薄膜等技術。應用電弧鍍膜裝置完成蒸鍍多層奈米複合薄膜於0.8mmf 微細鑽頭。
應用範圍
應用於現有之PCB高速精密加工之微細鑽頭、壓鑄件成形加工刀具產品、硬碟讀取頭元件、生物醫療器材及各種精密模具等的表面改質鍍膜。此外；低溫成長功能性氧化物薄膜亦是其特殊之應用領域。
接受技術者具備基礎建議（設備）
真空電弧離子鍍膜機、鍍膜製程技術
接受技術者具備基礎建議（專業）
真空電弧離子鍍膜應用/製造經驗
聯絡資訊
聯絡人：呂明生 金屬材料研究組
電話：+886-3-5915214 或 Email：menson@itri.org.tw
客服專線：+886-800-45-8899
傳真：.