工業技術研究院

技術簡介

本技術針對奈米用水中微量有機物質 (TOC) 之去除，開發利用逆滲透模組、臭氧注入與低壓紫外線照射等處理單元之組合達到氧化降解的效果；本技術產出已完成建置實驗級奈米用水測試模組及大型實廠級驗證系統，實驗級用於進行基礎研究，大型系統則設於 12 吋晶圓廠內進行實廠水質純化及驗證，未來期能產出符合 50 nm 製程高潔淨度之水質需求。

Abstract

none

技術規格

0.13 mm 製程水質規格：TOC ≦ 0.8 ppb、Bacteria < 1 cfu/ml、total SiO2 ≦ 1 ppb、ion < 20 ppt、Particle ≦ 2 counts/ml。

Technical Specification

none

技術特色

(1) 現階段奈米用水系統產水 TOC 值可達 0.8 ppb，可符合 0.13 mm 製程水質規格。 (2) 此奈米用水系統可提供作為多元化水源轉用處理模廠與新式水處理元件及分析儀器效能分析測試。 (3) 透過專利技術授權扶植國內水處理廠商，提升其能力，進而切入超純水系統設計與施工之廣大市場。

應用範圍

半導體產業、LCD 產業、超純水系統製造、設備業者。

接受技術者具備基礎建議（設備）

系統所需所有管線、閥件連接、機電設備、訊號傳送軟體與設定等。

接受技術者具備基礎建議（專業）

半導體、LCD 製造業廠務與製程流程及相關水系統製造、設備業組件流程。

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