技術簡介
可同時處理含過氟化物(PFC, CHF3, NF3, SF6)、微米/深次微米微粒、SiH4、TEOS的製程尾氣,處理程序電熱-微粒處理-觸媒-水洗。
Abstract
This apparatus can dispose of waste gases including PFCs, particles (diameter from micrometer to nanometer), SiH4 and TEOS simultaneously. The disposal procedure of the system is electrothermal unit – particle trap – catalyst bed – wet scrubber.
技術規格
系統操作溫度:450℃~800℃,微粒處理粒徑範圍:0.01μm~10μm,處理廢氣風量範圍:30~250 lpm。
Technical Specification
Operation temperature: 450~800℃, Removed particle size: 0.01μm~10μm, Flow rate of waste gas: 30~250 lpm.
技術特色
同時處理含過氟化物、深次微米微粒、SiH4/TEOS等廢氣的觸媒系統處理設備。
應用範圍
光電、半導體業之薄膜製程及乾蝕刻製程所排放之廢氣處理
接受技術者具備基礎建議(設備)
廢氣處理設備
接受技術者具備基礎建議(專業)
熟悉高科技業之製程氣體處理
聯絡資訊
聯絡人:游生任 空污防制與安全技術組
電話:+886-3-5914928 或 Email:YSJ@itri.org.tw
客服專線:+886-800-45-8899
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