技術簡介
比較原生黑色與紅色光阻及其廢液之物理、化學、光學性質及塗佈間差異，再利用化學分析與調配方式，可獲得再生黑色與紅色光阻。
Abstract
Confirm the difference of between original black, red photoresists and wastes, and use the analysis and adjustment to getting black, red photoresists
技術規格
STN製程之黑色感光樹脂，其光學密度需達2.0＠1μm；及用於TFT製程之黑色感光樹脂，其光學密度達3.0＠1μm。
Technical Specification
The optical density (O.D.) value of black photoresist at 1μm is 2.0 in the STN process, and is 3.0 in the TFT process
技術特色
經再生程序所產生再生黑色與紅色光阻，經實際機台驗證，其物理、化學、塗佈等性質，均與原生黑色與紅色光阻無明顯差異。
應用範圍
1.光電廠、2.彩色濾光片廠、3.高價光電化學品回收商
接受技術者具備基礎建議（設備）
1.光電廠等級的無塵室(class 1000以上)
2.具回收光阻液之塗佈機台與再生光阻設備
接受技術者具備基礎建議（專業）
1.化學分析知識
2.判斷光阻的物理、化學、塗佈等性質的專業知識
聯絡資訊
聯絡人：楊炎勝 空污防制與安全技術組
電話：+886-3-5919073 或 Email：victor_yang＠itri.org.tw
客服專線：+886-800-45-8899
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