技術簡介
–微粒核凝成長：利用界面活性劑水霧，在長溫下使微粒凝結成長，提升深次微米微粒之收集效率。
–多孔勻水膜集塵電極：不會有部分乾燥的槽道現象，可提升微粒之集塵效率
–電暈放電電極包覆空氣：避免放電電極被微粒附著、避免短路及火花，同時造成擾流，增加微粒充電效率
Abstract
Particle condensation growth by surfactant solution at room temperature.
-Porous collection electrode with uniform water film.
-Corona discharge wire with sheath air.
技術規格
廢氣溫度：常溫，微粒處理粒徑範圍：0.01μm~10μm，微粒處理效率：100nm之效率＆gt;90％，處理廢氣風量範圍:30~250 lpm。
Technical Specification
Temperature of waste gas: room temperature, Removed particle size: 0.01μm~10μm, Removed efficiency: removed efficiency for diameter100nm ＆gt;90％, Flow rate of waste gas: 30~250 lpm.
技術特色
‧細微粒去除效率高：利用常溫之界面活性劑微粒核凝成長，提升深次微米微粒之收集效率。
‧微粒處理粒徑範圍廣：0.01μm~10μm
‧可同時處理乾式粉塵及高濕度、酸性及黏稠性微粒
‧集塵電極板形成均勻水膜，不會有部分乾燥的槽道現象，微粒可經由連續之水流移除，水膜之用水量較省
應用範圍
光電、半導體業之乾蝕刻製程所排放之廢氣處理，或具有黏稠性細微粒之廢氣處理
接受技術者具備基礎建議（設備）
廢氣處理設備
接受技術者具備基礎建議（專業）
熟悉高科技業之製程氣體處理
聯絡資訊
聯絡人：陳姿名 空污防制與安全技術組
電話：+886-3-5915026 或 Email：tina_mhc＠itri.org.tw
客服專線：+886-800-45-8899
傳真：+886-3-5820378