技術簡介
–微粒核凝成長元件：利用微粒核凝成長，提升深次微米微粒之收集效率。並利用廢氣本身之高溫來產生蒸氣，不需外加能源及可達到核凝之效果。
–勻水膜集塵元件：不會有部分乾燥的槽道現象，可提升微粒之集塵效率
–改良之電暈放電元件：避免放電電極被微粒附著、避免短路及火花
Abstract
-Particle condensation growth by ultra-saturated steam at high temperature.
-Porous collection electrode with uniform water film.
-Modified corona discharge wire.
技術規格
廢氣溫度：＆gt;150℃，微粒處理粒徑範圍：0.01μm~10μm，微粒處理效率：100nm之效率＆gt;90％，處理廢氣風量範圍:30~250 lpm。
Technical Specification
Temperature of waste gas: ＆gt;150℃, Removed particle size: 0.01μm~10μm, Removed efficiency: removed efficiency for diameter100nm ＆gt;90％, Flow rate of waste gas: 30~250 lpm.
技術特色
‧細微粒去除效率高：利用微粒核凝成長，提升深次微米微粒之收集效率。
‧微粒處理粒徑範圍廣：0.01μm~10μm
‧可同時處理乾式粉塵及高濕度、酸性及黏稠性微粒
‧集塵電極板形成均勻水膜，不會有部分乾燥的槽道現象，微粒可經由連續之水流移除，水膜之用水量較省
應用範圍
光電、半導體業之薄膜製程及乾蝕刻製程所排放之廢氣處理
接受技術者具備基礎建議（設備）
廢氣處理設備
接受技術者具備基礎建議（專業）
熟悉高科技業之製程氣體處理
聯絡資訊
聯絡人：陳姿名 空污防制與安全技術組
電話：+886-3-5915026 或 Email：tina_mhc＠itri.org.tw
客服專線：+886-800-45-8899
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