工業技術研究院

技術簡介

一種單旋轉電漿機制，用以可旋轉地設置於一噴射式電漿系統中，電漿係經由直形通道噴出，避免因為加大處理面積而降低改質效能，本系統的工作範圍(直徑)能提升到20~30mm，適合高速處理樣品，具有良好的電漿效能。

Abstract

A casing is used for being rotatably disposed in a jet type plasma system. The plasma generated by the jet type plasma system jets out via the straight-shaped passage. Which can increase the working area and efficiency.

技術規格

操作頻率 20~40KHz, 可使用氣體源: CDA，N2，O2…，工作範圍 直徑: ~20mm(單迴轉)

Technical Specification

Frequency: 20~40KHz, Working gas: CDA, N2, O2, Dia. ~20mm(single Head)

技術特色

採用直流(單迴轉)或交流馬達(雙迴轉)，透過傳動元件的作用，使得電漿源產生旋轉運動，搭配電漿源幾何尺寸設計，來放大處理面積

應用範圍

表面改質，清潔，黏著強度提升

接受技術者具備基礎建議（設備）

個人電腦，機械繪圖設計軟體

接受技術者具備基礎建議（專業）

機械與理工相關背景

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