技術簡介
一種單旋轉電漿機制,用以可旋轉地設置於一噴射式電漿系統中,電漿係經由直形通道噴出,避免因為加大處理面積而降低改質效能,本系統的工作範圍(直徑)能提升到20~30mm,適合高速處理樣品,具有良好的電漿效能。
Abstract
A casing is used for being rotatably disposed in a jet type plasma system. The plasma generated by the jet type plasma system jets out via the straight-shaped passage. Which can increase the working area and efficiency.
技術規格
操作頻率 20~40KHz, 可使用氣體源: CDA,N2,O2…,工作範圍 直徑: ~20mm(單迴轉)
Technical Specification
Frequency: 20~40KHz, Working gas: CDA, N2, O2, Dia. ~20mm(single Head)
技術特色
採用直流(單迴轉)或交流馬達(雙迴轉),透過傳動元件的作用,使得電漿源產生旋轉運動,搭配電漿源幾何尺寸設計,來放大處理面積
應用範圍
表面改質,清潔,黏著強度提升
接受技術者具備基礎建議(設備)
個人電腦,機械繪圖設計軟體
接受技術者具備基礎建議(專業)
機械與理工相關背景
聯絡資訊
聯絡人:劉志宏 先進製造核心技術組
電話:+886-3-5918796 或 Email:stanliu@itri.org.tw
客服專線:+886-800-45-8899
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