工業技術研究院

技術簡介

現行之抗反射光學塗裝大多為多層堆疊結構，使顯示器產品製程與材料成本偏高。本計畫開發一種中孔洞的低折射薄膜，並搭配光學模擬設計，單層塗佈後可應用平面顯示器用之抗反射光學塗裝或太陽能封裝玻璃上，可於可見光波段達到高穿透抗反射之目的，且製程簡易具有競爭潛力。

Abstract

none

技術規格

1. 折射率1.25-1.45可調整; 2. 穿透度>93%; 3. Haze <0.3; 4. 鉛筆硬度>4H; 5. adhesion 5B

Technical Specification

1. refractive index tunable: 1.25-1.45; 2. Transmittance >93%; 3. Haze <0.3; 4. Pencile hardness>4H~6H; 5. Adhesion 5B

技術特色

(1)中孔洞材料設計。(2)濕式塗佈、生產迅速。(3)深紫外光處理得低折射高穿透光學薄膜配方技術。

應用範圍

透明基材的抗反射光學塗層; 高穿透度增加光學元件光取出; 顯示器用抗反射膜; 太陽能封裝玻璃塗層

接受技術者具備基礎建議（設備）

濕式塗佈設備; EUV機台

接受技術者具備基礎建議（專業）

none

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