工業技術研究院

技術簡介

完成精密狹縫塗佈設備開發，該設備用於平面基板高均勻度溼式塗佈製程。此設備採用龍門移動式設計，強化製程可靠度。已驗證之塗料包括光阻、導電高分子、硬化塗層、光學膠、銅銦鎵氧化物漿料等。

Abstract

Precision slit coater has been well developed which is used for wet coating process with high uniformity on a flat substrate. The slit coater is gantry-moving designed that would enhance the process stability. Verified coating materials include photoresist, conductive polymer, hard coat, optical clear resin, CIG oxidation slurry and so on.

技術規格

基板尺寸： 370mm x 470mm 膜厚範圍：0.2μm~200μm 最佳膜厚均勻度：±3% 最大塗速：10m/min

Technical Specification

Sub. Size: 370mm x 470mm, Thickness: 0.2μm ~ 200μm, Thickness variation: ±3% (best), Coating speed: 10m/min

技術特色

完成精密狹縫塗佈設備開發，該設備用於平面基板高均勻度溼式塗佈製程。本製程設備採用預計量式塗佈方式，封閉供料系統，可節省塗料及保持塗料品質，故獲得高品質塗膜成品。

應用範圍

舉凡須在平面基板完成高品質塗膜之製程，皆可適用，包括平面顯示器製程、觸控面板製程、背光模組、透明導電基板，太陽能製程等產業

接受技術者具備基礎建議（設備）

高速同步運動控制模組、高精度運動模組、供料模組、塗佈模具

接受技術者具備基礎建議（專業）

精密機械設計人才、電控設計人才、化學化工人才

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