工業技術研究院

技術簡介

以大氣熱噴塗製程製作出特性優良的光學薄膜(MgF2)，其高透光度與低折射率的特性，在發展作為太陽電池的抗反射層的應用上，因可有效提升電池之光電流，進而增加電池的轉換效率。本研發技術目標為建立成本低廉且具備優良光學特性之抗反射薄膜材料。

Abstract

none

技術規格

-薄膜折射率 < 1.45 -薄膜透光度(%) > 90 % -鍍膜速率：> 10 nm/min

Technical Specification

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技術特色

1.非真空製程，設備成本低廉 2.易於摻雜與改質，調整光學特性 3.鍍膜速率快，生產效率高

應用範圍

材料及光電相關產業

接受技術者具備基礎建議（設備）

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接受技術者具備基礎建議（專業）

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聯絡資訊