技術簡介
開發MOCVD光學即時監控系統，可即時監控磊晶時候腔體環境。
Abstract
The in situ monitor system can measure the MOCVD chamber ambient during epitaxy.
技術規格
三波長光源監控系統，可即時監控長速、溫度、曲率。
Technical Specification
In situ monitor system includes three wavelengths to detect the growth rate, temperature and curvature.
技術特色
國產設備，可擴充功能。
應用範圍
MOCVD磊晶技術
接受技術者具備基礎建議（設備）
需有磊晶成長技術或光電製程相關經驗之半導體廠商。
接受技術者具備基礎建議（專業）
需有磊晶成長技術或光電製程相關經驗之半導體廠商。
聯絡資訊
聯絡人：張弘文 光電元件與系統應用組
電話：+886-3-5918018 或 Email：hwchang@itri.org.tw
客服專線：+886-800-45-8899
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