技術簡介
開發轉印型ITO蝕刻膏體,使其可搭配凹板轉印技術直接在ITO基材表面形成線寬<30um之圖案化線路,經加熱後即可進行ITO材料蝕刻。
Abstract
A transferable ITO ehching composition has been developed for gravure offset printing process. It can be printed on a ITO substrate surface by the printing process, forming a patterned fine lines with line width < 30um. The ITO etching pastes will remove ITO material after a heating process.
技術規格
蝕刻線寬<30um
Technical Specification
etching linewidth <30 um
技術特色
該蝕刻膠體可配合凹板轉印製程直接在ITO基材表面形成圖案化線路,並藉由加熱製程即可將ITO材料移除
應用範圍
觸控、LED、顯示器等產業
接受技術者具備基礎建議(設備)
精密印刷設備
接受技術者具備基礎建議(專業)
化學化工、光電製程
聯絡資訊
聯絡人:王裕銘 先進製造核心技術組
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