工業技術研究院

技術簡介

開發高功率磁控脈衝濺鍍製程於石墨基材鍍製金屬薄膜,可以大幅提高發熱體的散熱效率且降低其hot spot 的產生

Abstract

Highly thermal conductivity metal thin film were deposited by using high power impulse magnetron sputtering (HIPIMS) from a metal target. The metal films deposited on garphite have highly themal condictivity behavior that can reduce the hot spot from the electronic devices.

技術規格

膜層厚度>300nm，膜層與石墨材結合強度通過3M-No.600 tape test，膜層片電阻≦1.0 Ω/□ 。

Technical Specification

film thickness:>300 nm,adhesion test:3M-No.600 tape test, sheet resistance:≦1.0 Ω/□

技術特色

應用不同金屬元素之金屬薄膜鍍製於石墨基材，可以提供石墨片和電子元件之散熱效果

應用範圍

手機產業、電腦產業

接受技術者具備基礎建議（設備）

鍍膜製程技術

接受技術者具備基礎建議（專業）

真空電弧離子鍍膜應用/製造經驗

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