技術簡介
採用光學模擬及微結構分析,預測光學行為,藉由蝕刻方向控制技術,製作高穿透光擴散光學元件
Abstract
none
技術規格
可達到符合在285nm兩波長範圍，光學擴散角>10度，穿透度>85%之光擴散特性
Technical Specification
none
技術特色
可針對不同應用進行光學結構調整\製程穩定\可批次生產
應用範圍
半導體曝光機台用\LCD背光用光擴散元件
接受技術者具備基礎建議（設備）
塗佈機、曝光機、化學槽、鍍膜機
接受技術者具備基礎建議（專業）
材料、化工、機械
聯絡資訊
聯絡人：潘信宏 電子材料及元件研究組
電話：+886-3-5915983 或 Email：feelpan@itri.org.tw
客服專線：+886-800-45-8899
傳真：+886-3-5820386