技術簡介
運用高階X光繞射分析，進行薄膜晶相、結晶度、晶粒、織構、應力、膜厚、反射率等材料分析。
Abstract
Utilizing the high resolution X-ray diffractometer for thin-film crystal phase, crystallinity, grain size, texture, stress, thickness and reflectivity.
技術規格
x-ray generator: 4KW, 60KV , 100mA。電壓、電流穩定性<0.01%。theta 角精確度為0.0001度。 decoupled theta / 2theta drive。
Technical Specification
x-ray generator: 4KW, 60KV , 100mA. HT and Stability <0.01%. theta resolution 0.0001deg. decoupled theta / 2theta drive.
技術特色
具國內最專業X光繞射經驗與資料庫，產業整合服務的客製化設計。
應用範圍
金屬、陶瓷、半導體、光電、高分子等薄膜鍍膜相關產業。
接受技術者具備基礎建議（設備）
精密鍍膜設備、結構、產品開發
接受技術者具備基礎建議（專業）
高分子、化工、材料
聯絡資訊
聯絡人：鄭信民 前瞻材料基磐技術組
電話：+886-3-5918277 或 Email：SMCheng@itri.org.tw
客服專線：+886-800-45-8899
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