工業技術研究院

技術簡介

在卷對卷OLED照明的製程中，一般須同時考量MD與TD方向之對位，對於連續式動態傳輸系統的檢測與調整負擔過大，易造成鍍膜不均，故本技術結合OLED照明製程中原有蒸鍍或濺鍍製程均則需搭配鍍膜遮罩，藉由鍍膜遮罩的設計，同時解決TD方向對位與鍍膜之問題，為卷對卷OLED照明關鍵技術。

Abstract

In the R2R OLED lighting process needs consider the alignment of MD and TD in the same time. Due to continuous dynamic conveyance has overload on measurement and adjustment will cause uneven coating. Therefore, combining coating mask design in evaporating/sputtering for OLED lighting process to solve alignment and coating problem.

技術規格

1.OLED光源發光面積: 90*90 mm 2.OLED光源色溫: 3000K 3.OLED光源效率: >50 lm/W

Technical Specification

none

技術特色

在卷對卷OLED照明的製程中，一般須同時考量MD與TD方向之對位，對於連續式動態傳輸系統的檢測與調整負擔過大，易造成鍍膜不均，故本技術結合OLED照明製程中原有蒸鍍或濺鍍製程均則需搭配鍍膜遮罩，藉由鍍膜遮罩的設計，同時解決TD方向對位與鍍膜之問題，為卷對卷OLED照明關鍵技術。

應用範圍

1.博物館、展示館、高級設計桌燈 2.商場照明、汽車照明(尾燈與內裝)、具規模客製化照明(如豪宅) 3.一般居家照明

接受技術者具備基礎建議（設備）

none

接受技術者具備基礎建議（專業）

none

聯絡資訊