技術簡介
自主開發ICP-CVD電漿鍍膜技術，於單一腔體中連續製備SiOx:CH薄膜，使其同步具有阻水氣、硬化及疏水功能之複合保護膜。
Abstract
none
技術規格
1.阻水氣率(WVTR≦5x10^-3g/m^2day)
2.表面疏水(WCA>100°)
3.Hard Coating提升原材料3個等級
Technical Specification
none
技術特色
自主開發ICP-CVD電漿鍍膜技術，於單一腔體中連續製備SiOx:CH薄膜，使其同步具有阻水氣、硬化及疏水功能之複合保護膜。
應用範圍
傳產車燈鍍膜，電子元件防水，光電產業
接受技術者具備基礎建議（設備）
PECVD電漿鍍膜設備硬體、PLC程控軟體
接受技術者具備基礎建議（專業）
具PECVD電漿鍍膜 、 真空設備專長
聯絡資訊
聯絡人：鄭志宏 雷射中心
電話：+886-6-6939053 或 Email：chengbicha@itri.org.tw
客服專線：+886-800-45-8899
傳真：none