技術簡介
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Abstract
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技術規格
電漿密度1011/cm^3，操作功率1~5KW，電漿面積可達900mmx600mm
Technical Specification
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技術特色
自主開發高密度ICP-CVD電漿鍍膜技術，單一腔體連續製備SiOCH複合薄膜，具高阻水氣性、殊水硬化特性。
應用範圍
OLED封裝、車燈鍍膜、晶圓蝕刻
接受技術者具備基礎建議（設備）
RF-Generator & Matching，控壓Pump系統
接受技術者具備基礎建議（專業）
真空設備, 電漿製程, 薄膜分析
聯絡資訊
聯絡人：廖金二 L200
電話：+886-6-6939109 或 Email：artliao@itri.org.tw
客服專線：+886-800-45-8899
傳真：none