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工業技術研究院

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技術名稱: 前瞻製程關鍵粒子即時監控技術

技術簡介

半導體製程使用溶液之線上粒子尺寸與濃度監控技術,此技術大幅超越目前使用的光學偵測方式極限40 nm,達到5 nm等級,提供發展中的最先進半導體7 nm、5 nm等製程需。

Abstract

A new generation monitoring system of nanoparticles in solution, based on aerosol particles measurement technology, monitoring range from 5 nm to 1000 nm

技術規格

監控範圍 5 nm to 1000 nm

Technical Specification

monitoring range 5 nm to 1000 nm

技術特色

氣膠粒子量測技術,可達5奈米,不受氣泡干擾

應用範圍

半導體、光電及生醫領域溶液中顆粒檢測。

接受技術者具備基礎建議(設備)

none

接受技術者具備基礎建議(專業)

none

技術分類 先進檢測與感測儀器- 檢測/設備技術

聯絡資訊

聯絡人:傅尉恩 量測技術發展中心

電話:+886-3-5732220 或 Email:WeienFu@itri.org.tw

客服專線:+886-800-45-8899

傳真:none