技術簡介
半導體製程使用溶液之線上粒子尺寸與濃度監控技術，此技術大幅超越目前使用的光學偵測方式極限40 nm，達到5 nm等級，提供發展中的最先進半導體7 nm、5 nm等製程需。
Abstract
A new generation monitoring system of nanoparticles in solution, based on aerosol particles measurement technology, monitoring range from 5 nm to 1000 nm
技術規格
監控範圍 5 nm to 1000 nm
Technical Specification
monitoring range 5 nm to 1000 nm
技術特色
氣膠粒子量測技術，可達5奈米，不受氣泡干擾
應用範圍
半導體、光電及生醫領域溶液中顆粒檢測。
接受技術者具備基礎建議（設備）
none
接受技術者具備基礎建議（專業）
none
聯絡資訊
聯絡人：傅尉恩 量測技術發展中心
電話：+886-3-5732220 或 Email：WeienFu@itri.org.tw
客服專線：+886-800-45-8899
傳真：none