工業技術研究院

技術簡介

本技術採用塗佈製程與表面處理製程進行阻氣層製作，其光學與阻氣特性之表現可媲美PECVD製作之軟性阻氣基板，同時相較之下更具備量產成本優勢

Abstract

none

技術規格

1. 軟性基板光學特性：T ?84%，b* ?2 2. 軟性基板阻氣性 : WVTR ~ 5 x 10-6 g/m2-day

Technical Specification

none

技術特色

本技術採用塗佈製程與表面處理製程進行阻氣層製作，其光學與阻氣特性之表現可媲美PECVD製作之軟性阻氣基板，同時相較之下更具備量產成本優勢

應用範圍

軟性觸控面板、軟性顯示面板、軟性照明等

接受技術者具備基礎建議（設備）

基板塗佈裝置與表面電漿處理設備

接受技術者具備基礎建議（專業）

具材料塗佈相關製程

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