工業技術研究院

技術簡介

透過工業界常見的1064 nm超快雷射導入非線性晶體(NLC)中，產生比入射波長要長的超快雷射，可針對非透明材料如(Si, SiC)進行內部改質。

Abstract

Introduced into the nonlinear crystal (NLC) through the industry‘s common 1064 nm ultrafast laser, which produces ultra-fast lasers longer than the incident wavelength and can be internally modified for non-transparent materials such as (Si, SiC).

技術規格

輸入波長：1064 nm 輸出波長：signal 1500~1600 nm；idler 3100~3500 nm 轉換效率：30%

Technical Specification

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技術特色

透過工業界常見的1064 nm超快雷射導入非線性晶體(NLC)中，產生比入射波長要長的超快雷射，可針對非透明材料如(Si, SiC)進行內部改質。

應用範圍

半導體、光電、3C產業：濾光片切割、藍寶石切割、玻璃切割

接受技術者具備基礎建議（設備）

超快雷射源、PSO同步觸發模組、精密線性平台

接受技術者具備基礎建議（專業）

光學、製程、材料、機械、光機電整合

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