技術簡介
透過工業界常見的1064 nm超快雷射導入非線性晶體(NLC)中,產生比入射波長要長的超快雷射,可針對非透明材料如(Si, SiC)進行內部改質。
Abstract
Introduced into the nonlinear crystal (NLC) through the industry‘s common 1064 nm ultrafast laser, which produces ultra-fast lasers longer than the incident wavelength and can be internally modified for non-transparent materials such as (Si, SiC).
技術規格
輸入波長:1064 nm
輸出波長:signal 1500~1600 nm;idler 3100~3500 nm
轉換效率:30%
Technical Specification
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技術特色
透過工業界常見的1064 nm超快雷射導入非線性晶體(NLC)中,產生比入射波長要長的超快雷射,可針對非透明材料如(Si, SiC)進行內部改質。
應用範圍
半導體、光電、3C產業:濾光片切割、藍寶石切割、玻璃切割
接受技術者具備基礎建議(設備)
超快雷射源、PSO同步觸發模組、精密線性平台
接受技術者具備基礎建議(專業)
光學、製程、材料、機械、光機電整合
聯絡資訊
聯絡人:廖經理 M100
電話:+886-6-6939109 或 Email:artliao@itri.org.tw
客服專線:+886-800-45-8899
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