工業技術研究院

技術簡介

以產業化研發/試量產環境為營運主軸,建置微感測器材料、結構、製程特性之整合模擬測試系統,提供工業感測器、物聯網相關、光學檢測等感測器製作所需之專業技術服務，藉試量產實驗室之運作，加速微感測器產業之發展，創造全新感知運用產業價值鏈。

Abstract

none

技術規格

■ 2微米矽鍺疊層製程：關鍵材料 SiGe, THK: 2µm ±10％，Residual stress≤ 20MPa，犧牲層材料 Ge, THK : 0.5µm ■ 次微米高TCR疊層製程：關鍵材料 SiGe, THK : 100 nm ±10％，TCR≥2％

Technical Specification

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技術特色

以研發、快速試製與小量生產為定位，提供微型感測器不同階段所需製程之解決方案，利基型產品可藉由本平台量產出貨；量大之產品亦可協助導入國內大型代工廠量產。

應用範圍

‘MEMS Microphone、Accelerometer / Vibration sensor、Gas sensor

接受技術者具備基礎建議（設備）

模組化、機電整合

接受技術者具備基礎建議（專業）

微機電元件、光學元件、醫材、感測器元件設計

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