技術簡介
開發特殊複合金屬氧化物薄膜，經過低溫共燒技術，將金屬氧化物薄膜與玻璃基材產生介金屬化合物，以利克服以往在濕式玻璃金屬化上附著力不佳的問題
Abstract
Develop composite metal oxide film, through low-temperature sintering technology, make metal oxide and glass produce intermetallic compound to increase the adhesion of metal layer on glass substrate
技術規格
1.拉力值＞3N 2.玻璃基板上直接沉積銅金屬，厚度＞200nm
Technical Specification
-
技術特色
開發特殊複合金屬氧化物薄膜，經過低溫共燒技術，將金屬氧化物薄膜與玻璃基材產生介金屬化合物，以利克服以往在濕式玻璃金屬化上附著力不佳的問題
應用範圍
半導體封裝、pcb產業
接受技術者具備基礎建議（設備）
電鍍設備
接受技術者具備基礎建議（專業）
機械、材料與化學
聯絡資訊
聯絡人：黃萌祺 半導體設備技術組
電話：+886-3-5915841 或 Email：ach＠itri.org.tw
客服專線：+886-800-45-8899
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