工業技術研究院

技術簡介

電漿設備上安裝光學感測器，擷取光譜數據，並透過收集實驗數據進行電漿參數資訊模型建立，可即時監測電漿密度、電子溫度、離子通量與物種濃度等重要電漿參數。

Abstract

A optical sensor is installed on the plasma equipment to collect optical spectrum data, and establish plasma parameterinformation module by collecting experimental data. The information module can monitor real-time information of plasma paramters, such as plasma density, electron temperature, ion flux and species concentration.

技術規格

於電漿設備上安裝光學感測器，擷取光譜數據，其監控模組採用放射光譜儀，其波長範圍：400-800nm，訊躁比300:1，結合電漿參數資訊模型以進行數據處理及電漿參數分析。

Technical Specification

Install a optical sensor on the plasma equipment to capture the optical spectrum data. The monitoring device adopts optical emission spectroscopy,which has 400-800 nm wavelength range and 300:1 signal-to-noise ratio. The device should be conbined with plasma parameterinformation module to data processing and plasma parameters analysis.

技術特色

電漿設備上安裝光學感測器，擷取光譜數據，並透過收集實驗數據進行電漿參數資訊模型建立，可即時監測電漿密度、電子溫度、離子通量與物種濃度等重要電漿參數。

應用範圍

電漿設備(電漿沉積/電漿蝕刻)

接受技術者具備基礎建議（設備）

光學訊號感測器、光譜擷取模組

接受技術者具備基礎建議（專業）

1.具電漿診斷技術相關知識 2.軟體撰寫 3.系統整合測試

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