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工業技術研究院

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技術名稱: 電漿診斷技術

技術簡介

建立蘭摩爾探針、光譜激光儀及離子能量分析技術,提供電漿關鍵製程之電漿特性監測

Abstract

Develop the langmuir Probe, opticspectrum and ion energy analysis technologies to provide plasma characteristics monitoring for key plasma processes.

技術規格

電漿密度1010-1011cm-3, 電子溫度1.5-5 eV, IEDs 10-60 eV

Technical Specification

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技術特色

光電及半導體製造與封裝產業;相關電漿設備應用產業,監測及了解電漿特性,提升電漿製程穩定度

應用範圍

光電及半導體製造與封裝產業;相關電漿設備應用產業

接受技術者具備基礎建議(設備)

蘭摩爾探針、光譜激光儀及離子能量分析儀

接受技術者具備基礎建議(專業)

電漿及光電半導體設備經驗

技術分類 精密機械

聯絡資訊

聯絡人:張家豪 半導體設備技術組

電話:+886-3-5919330 或 Email:changch@itri.org.tw

客服專線:+886-800-45-8899

傳真:+886-3-5820043

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