技術簡介
藉由光譜儀及真空壓力感測器,監測及分析電漿設備內的腔體環境變化,讓使用者能了解製程前/中的腔體環境狀況
Abstract
Using spectrometers and vacuum pressure sensors to monitor and analyze changes in the chamber environment of plasma equipment, allowing users to understand the chamber environment before/during the process
技術規格
於薄膜設備上壓力感測器,其監控模組採用真空壓力計,其壓力範圍:0-760 Torr,結合資訊模型以進行數據處理及腔體環境參數分析。
Technical Specification
The pressure sensor is installed on the thin film equipment, and its monitoring module adopts a vacuum pressure gauge with a pressure range of 0-760 Torr. Combined with the information model, it can be used for data processing and cavity environmental parameter analysis.
技術特色
可監控真空環境之狀態穩定性,降低產品不良率發生,回報異常資訊,增加維護效率
應用範圍
電漿設備(真空系統)
接受技術者具備基礎建議(設備)
壓力感測計
接受技術者具備基礎建議(專業)
軟硬體功能整合架構且提供較市面上多元之電漿參數分析與監控能力
聯絡資訊
聯絡人:沈家志 半導體設備技術組
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