『您的瀏覽器不支援JavaScript功能,若網頁功能無法正常使用時,請開啟瀏覽器JavaScript狀態』

跳到主要內容區塊

工業技術研究院

:::

技術名稱: 鈣鈦礦厚膜、其製備方法以及包含其之輻射偵測器

技術簡介

一種輻射偵測器,包括基板、形成於該基板上之像素陣列、形成於該像素陣列上且具有立方晶相之鈣鈦礦厚膜、形成於該鈣鈦礦厚膜上且與該像素陣列相對之第一電極、以及讀取電路,該輻射偵測器具有顯著降低的暗電流密度以及高的感測靈敏度。本揭露也提供了製備該鈣鈦礦厚膜之方法。

Abstract

Provided is a radiation detector, comprising a substrate, a pixel array formed on the substrate, a perovskite thick film formed on the pixel array and having a cubic crystal phase, a first electrode formed on the perovskite thick film and opposite to the pixel array, and a readout circuit. The radiation detector has significantly reduced dark current density and high sensing sensitivity. The present disclosure also provides a method for preparing the perovskite thick film.

技術規格

(中文) 鈣鈦礦X光感測膜尺寸:20*20 cm2。 X光感測法:直接式與間接式皆具備。 X光光管操作電壓範圍:20-130 kVp。 暗電流密度:0.45 ± 0.03 nA/cm2. (0.1 V/µm) 直接式感測器靈敏度:37400 µC/Gy‧cm2。 間接式感測器半高寬:<19 nm。 感測X光時間延遲率:<0.83%。

Technical Specification

Film size:20*20 cm2。 X-ray detection method:Direct and in-direct。 X-ray tube operate voltage:20-130 kVp。 Dark current density:0.45 ± 0.03 nA/cm2. ( 0.1 V/µm) Direct type sensitivity:37400 µC/Gy‧cm2。 In-direct type wavelength FWHM:<19 nm。 Temporal resolution:<0.83%。

技術特色

核心材料配方設計與開發,以鈣鈦礦量子點噴墨印刷專利技術,製作大面積直接式與間接式X光感測器,兼用可撓式基板的成膜技術,可用於醫療檢測與光電半導體非破壞性檢測市場,帶動面板產業轉型。

應用範圍

1. 各種光感測技術,如:X-ray、LiDAR等。 2. 噴墨印刷量子點技術。

接受技術者具備基礎建議(設備)

化學合成設備、噴塗印刷設備。

接受技術者具備基礎建議(專業)

材料、化學、化工、光電等相關技術人員。

技術分類 02 R太陽光電技術

聯絡資訊

聯絡人:黃國瑋 太陽光電技術組

電話:+886-6-3636843 或 Email:spencerhuang@itri.org.tw

客服專線:+886-800-45-8899

傳真:+886-6-3032353

舊工業技術研究院圖示