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工業技術研究院

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工業技術與資訊月刊

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殺手級應用技術上場 微型雷射投影技術新突破

工研院南分院發表最新的微型雷射投影技術,可在投影亮度、銳利度、均勻度、色域上做提升,投影畫面平整不扭曲,同時也提高系統相容性,使廠商在選擇光機元件時有更大的彈性,對業界是十分受用的技術突破。

此微型雷射投影技術,具備四項獨特的光學掃瞄補償技術,為目前雷射投影技術所遇到的問題,提供了最佳的解決方案。「亮度失真補償技術」透過由工研院獨家開發的亮度權重演算法,有效解決雷射掃描畫面中間與邊緣運動速度不一致所導致的整體亮度不均,補強後可達到92%以上的均勻效果。「光機失真補償技術」可針對投影成像角度造成的畫面扭曲和失真做調整,提供比例最真實的投影相貌。「同步失真補償技術」將雷射與掃瞄元件訊號之同步能力提升至10ns,以針對MEMS面鏡掃描角度進行即時監測,解決雷射與MEMS面鏡交互動作時所產生的影像模糊問題。「光機錯位補償技術」以韌體方式增加紅、綠、藍三原色的對位性,提升影像銳利度讓成像色澤更鮮明。這四大掃瞄補償技術同時也提高整合控制系統對光機元件性能的容忍度,大幅放寬可選擇的光機元件規格,增加模組廠商選擇供應商的彈性,更進一步有助於降低生產成本。

南分院目前所開發的微型雷射投影技術,透過特殊的光學設計結構和配置的優化,使模組尺寸可縮小至8c.c.左右,較一般掌上型LED投影技術的模組尺寸小了20%。其技術應用微機電二維微型掃描面鏡及紅綠藍三色(RGB)雷射,以雷射掃描方式成像,畫面可達無窮遠且不需對焦,並保持畫面清晰與色彩亮度,達到SVGA等級的畫質,而且具有光損失少、體積小、耗電低等技術特色。



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