技術簡介
以 VC Lid(Vapor Chamber Lid)均溫元件為開發主體,可導入水冷板散熱與浸沒式冷卻,提供 HPC(High Performance Computing)高性能運算系統的散熱解決方案。
應用範圍
VC Lid 元件開發須同時注重高散熱能力與高強度設計,因此我們針對優化設計分析、導入創新製程,與千瓦級散熱性能量測技術進行開發。目前所開發的新型 VC Lid 已達性能1000W,散熱性能持續推進中,並持續強化元件強度與可靠度性能。我們希望相關技術開發,能夠協助產業加速切入HPC散熱市場,建立技術門檻,創造新一波龐大的商機。
減碳效益
因應 HPC 晶片端的千瓦級散熱瓶頸,與廠商偕同合作,開發廣泛多樣性的最適化散熱方案。藉由偕同開發與業界串聯,加速推動 HPC 產業市場落地,並及早建立國內技術門檻。