工業技術研究院

技術簡介

本技術為奈米顏料的濕式研磨分散製程及硬體設計技術，分散系統的安定化技術，及奈米顏料的光學/物理狀態分析評估技術，製備之奈米顏料粒徑≦30nm，具高的透光率(T)、明度(L*)、彩度(C*)及色域(Gumat)，適用於Ink Jet Ink、Color Resist、塗料、油墨等產業領域。本技術建立界面科學基礎，以商品化分散劑，色料及相關助劑開發具實用化及產品化的產出品，具國內、外產製及商業化的領先優勢。本技術申請專利中。

Abstract

none

技術規格

‧顏料粒徑≦30nm ‧具冷凍回溫安定性(-15~65℃) ‧顏料含量 ≧10 wt % ‧viscosity ～(<) 10cps

Technical Specification

none

技術特色

‧顏料粒徑≦30nm ‧具冷凍回溫安定性 ‧已應用於噴墨領域－產品：具有高光透過率，鮮豔色彩、耐光/耐候之特性－分散系統具有高能量密度，操作維護容易，具量產化能量

應用範圍

噴墨印表機數位墨水、平面顯示器用彩色光阻劑、塗料、油墨等顯色產業

接受技術者具備基礎建議（設備）

精密界質研磨(Media Mill)設備

接受技術者具備基礎建議（專業）

有機/無機粉體的分散經驗或基礎，塗料、油墨研製技術，膠體/界面科學技術

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